‘Projeto Manhattan da China’, Europa diz 'basta’, satélites no Brasil e a IA devora a Wikipédia

A China desenvolveu seu 1º protótipo de máquina de EUV (litografia ultravioleta extrema), equipamento capaz de gravar circuitos 1.000 vezes mais finos do que um fio de cabelo em chips de última geração que alimentam IAs e smartphones. Os Estados Unidos sempre impuseram restrições para impedir que a China tivesse acesso aos equipamentos necessários para desenvolver essa tecnologia. A ideia era manter a China longe desse item fundamental para o avanço da IA, já que o país se garante em pesquisa, patentes e modelos, mas ainda depende de infraestrutura de semicondutores para competir com igualdade nessa corrida. É daí que surge o paralelo com o Projeto Manhattan. Afinal, a China fez um esforço industrial sigiloso, com recrutamento de especialistas, investimento pesado em pesquisa e desenvolvimento, e estratégias de engenharia reversa para chegar a essa tecnologia crítica sem depender do Ocidente. Uma possível evolução desse protótipo para a produção em série vai causar um impacto direto na guerra dos chips, com o redesenho de cadeias globais de fornecimento e efeitos em países que hoje dependem de poucos fornecedores, como o Brasil.